GV10x安裝在灰化器上，通過等離子灰化處理，EM腔體的污染能得到明顯改善。通過溫和的氧離子灰化處理可對樣品和TEM電鏡桿表面進行很好的清洗且不對樣品產生損傷，詳細介紹參考文獻： Cleaning TEM Samples on Carbon Films Microscopy-Today January 2014 for a detailed discussion.
等離子清洗機通過加速離子從而達到濺射或者刻蝕樣品，而GV/GA中使用氧原子或氫原子通過化學反應消除碳氫化合物。整個過程中并沒有熱量或者離子轟擊產生。氧氣將碳氫化合物轉化為CO2 CO 或 H2O分子從而通過真空泵抽走。因此，整個處理過程能有效消除碳氫化合物而絕不會損壞樣品。
建議使用60l/m的真空泵和80l/s的TMP。
Bench Top A05 GA Chamber P5 Source 2U A05 GA Chamber P5 Source
工作環境： - 2 Torr to <5 mTorr (measured at the Source)
o 在較高的真空度下（大于50 毫托），清洗氣體的平均自由程很短，允許在靠近等離子源的區域去除污染。
o 在較低的真空度下（小于50 毫托），清洗氣體的平均自由程比較長，能均勻高效的清除碳污染。
o 整個清洗反應過程發生在分子泵運行的狀態下，無需關閉抽真空系統。
