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GV10X

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原位電鏡等離子清洗機

GV10x去除碳和碳氫污染的效率是傳統方法的10-20倍,排除了SEM圖像的干擾和成像中的黑色掃描框,保持SEM成像的高分辨率和穩定性;排除聚焦離子束(FIB)和透射電子顯微鏡(TEM)中的碳干擾。

全新的典范: 原位等離子清洗系統GV10X
 

    GV10x 是由美國ibss Group公司與等離子源發明者共同合作開發并生產的新一代原位等離子技術清洗系統。GV10x可以在分子泵運行的真空狀態下工作,GV10x去除碳和碳氫污染的效率是傳統方法的10-20倍,且具有價格優勢。排除了SEM圖像的干擾和成像中的黑色掃描框,保持SEM成像的高分辨率和穩定性;排除聚焦離子束(FIB)和透射電子顯微鏡(TEM)中的碳干擾。

亮點:
功率:5 -99 W 連續可調等離子功率


工作環境:- 2 Torr to <5 mTorr (等離子源處真空度)
在較高的真空度下(大于50 毫托),清洗氣體的平均自由程很短,允許在靠近等離子源的區域去除污染。
在較低的真空度下(小于50 毫托),清洗氣體的平均自由程比較長,能均勻高效的清除碳污染。
整個清洗反應過程發生在分子泵運行的狀態下,無需關閉抽真空系統。


柔和:使用中性氧或氫的自由基通過非動力學過程灰化氣相碳氫化合物和表面碳。



  
    Ibss group公司引進Gentle Asher 腔體拓展了GV10x的應用,用以清潔放入電子顯微鏡腔體前的樣品。連接了GV10x的Gentle Asher™腔體 GA/GV 可以極大地防止黑色掃描方框的生成。在將電鏡腔清潔到可接受的碳氫污染水平后,可以使用順流工藝,通過簡單地將GV10x源移動到Gentle Asher腔中,達到樣品清潔和儲存的目的??蛻舻膱蟾媛暦Q這種有效的結合以更少的損傷巧妙地去除TEM樣品臺和任何類型樣品的污染,同時保持CDSEM、 SEM、FIB 和TEM中碳氫污染水平的易控制性。預清潔樣品和樣品臺避免了污染電鏡腔體,這樣就延長了電鏡清洗的周期。


         

功率:5 -99 W 連續可調等離子功率

工作環境: - 2 Torr to <5 mTorr (measured at the Source)
o 在較高的真空度下(大于50 毫托),清洗氣體的平均自由程很短,允許在靠近等離子源的區域去除污染。
o 在較低的真空度下(小于50 毫托),清洗氣體的平均自由程比較長,能均勻高效的清除碳污染。
o 整個清洗反應過程發生在分子泵運行的狀態下,無需關閉抽真空系統。

柔和:使用中性氧或氫的自由基通過非動力學過程灰化氣相碳氫化合物和表面碳。

氣源:使用中性氧或氫的自由基通過非動力學過程灰化氣相碳氫化合物和表面碳。

控制系統:手動,PC控制,皮拉尼真空計
          時間:0~999分鐘,精度:秒
          實時顯示設置值和實際參數

軟件:基于WINDOWS XP系統可與電鏡操作軟件對接,編入電鏡操作軟件。



 




 
    GV10x 順流等離子清洗系統去除碳氫污染的能力是一個巨大突破,超越了使用冷卻捕捉、氮氣吹塵等緩和污染的傳統方法和其它等離子清洗機。GV10x,以其擴展的功率和壓力范圍(5 至 100 瓦 和2 至 <0.005 托) 代表了SEMs和其他真空系統中除碳的經典轉移。

    原子氧和氫可以將表面碳轉換成氣相分子然后被泵出到腔體外,而不僅是被固定和捕獲在表面,從而消除污染。SEM腔中低的碳含量使樣品假象比如聚合物沉積得到最小化。




    

 
    
              Negative [or positive] charging scan squares & charging artifacts cause critical measurement and observational errors removed and prevented - Courtesy of Infineon on LEO 1550

 
    由于各個儀器的清潔周期不同,可以通過在不同的儀器之間更換GV10x 源將GV10x 應用在幾個實驗室工具上。 在GV10x源和儀器真空腔之間放置一個隔離閥,如S-4700 FESEM所示,就可以非常簡易的重新安置GV10x。


 

    隨著納米科學的進步,電子束聚焦的更好、電子束能量降低、前驅氣體的使用增加,使得高分辨率日益依賴于將碳污染控制在較低水平。通過遠程或順流等離子工藝消除污染和去污染能夠迅速、簡便和有效地完成這樣的任務。與普通的“等離子清洗機“中的動力學濺射、刻蝕清潔不一樣, 順流等離子工藝是一個柔和的化學刻蝕。這個工藝已經革新了在真空腔體中消除碳分子和碳氫化合物的方式。

   

GV10x DS Asher以較高的原子氧和氫濃度和更少的時間就可以達到同樣精妙的去除污染的效果,因此只需很短的時間就可以得到全新清潔的腔體,非常適合大尺寸的腔體和重度污染的表面??蛻袈暦Q,使用GV10x可以使整個大型腔體的碳氫水平得到更加有效和均勻的控制,而只需要現存方法的十分之一的時間,同時具有更加好的均勻性。








 
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